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出 处:《分析试验室》1999年第5期80-82,共3页Chinese Journal of Analysis Laboratory
摘 要:报道了α苯偶酰二肟修饰碳糊电极的制备及对合成水样中铜的测定,在pH4.1 的BR缓冲溶液中通过在- 120V 电位下富集Cu2+后,在- 02~+ 02V 电位范围内作阳极溶出伏安法测定。在+ 0048V处有一灵敏的氧化峰,峰电流与Cu2+ 浓度在1×10- 7~1×10- 4m ol/L范围内成良好的线性关系,检出限为5×10- 8m ol/L。In this paper ,carbon paste electrode(CPE) modified by α benzil dioxime ( α BD) has been made.In B R buffer(pH4.1),copper ions was accumulated and deoxidized to form Cu α BD complex under -1.2V for 240s on the chemical modified electrode.A sensitive oxidation peak of Cu was observed with anodic stripping voltammetry (ASV) method.The peak potential is 0.048V( vs .SCE).The current/concentration relationship is linear from 1×10 -7 ~1×10 -4 mol/L.The detect limit is 5×10 -8 mol/L
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