在高纯氧氯化锆制取过程中絮凝剂对“二次除硅”的影响  

Effect of Polymeric Flocculants in Secondary Removal of Silicon for Highpurity Zirconium Oxychloride Preparation

作　　者：邓淑华[1] 郑文裕[1] 

机构地区：[1]广东工业大学化工系

出　　处：《应用化学》1999年第3期85-87,共3页Chinese Journal of Applied Chemistry

基　　金：国家星火计划;广东省自然科学基金

摘　　要：高纯氧氯化锆是制取高纯锆化学品的重要原材料，目前国内外多采用锆英石为原料碱熔法生产，硅的去除分两步进行：第１步是用水浸洗碱熔分解产物，大约有８５％～９０％的硅以硅酸钠的形式进入水浸液，余下ＳｉＯ２需要“二次除硅”．因此，要生产高纯产品，“二次除硅”是...Polyacrylamide type flocculants have been used in the secondary removal of silicon in preparation of highpurity zirconium oxychloride. Under optimum conditions of the process 989% and more silicon was removed and the silicon content in final product was 00005%.

关 键 词：高纯氧氯化锆 除硅 絮凝剂 聚丙烯酰胺 氧氯化锆 

分 类 号：TQ134.12[化学工程—无机化工]