渗钒层的XRD结构深度分布分析  

AN ANALYSIS OF STRUCTURE DISTRIBUTION AT DIFFERENT DEPTH OF VANADIZED LAYER

作　　者：亓永新[1] 李木森[1] 张晓玲 隋金玲 

机构地区：[1]山东工业大学材料科学与工程学院,济南250061

出　　处：《山东工业大学学报》1999年第4期375-379,共5页

摘　　要：用掠角 Ｘ 射线衍射并结合电子探针及透射电子显微镜，研究了渗钒层不同深度的结构信息，发现渗钒层由表及里晶粒由细逐渐变粗，并证实了应用传统的 Ｘ 射线衍射方法产生的α Ｆｅ 的峰是来自衬底的干扰。The structure message of vanadized layer at different depth was studied with x ray diffraction methed and TEM. The results showed that,crystal grains of vanadized layer were becoming finer gradualy from inside to outside,and confirmed that the differaction peak of α Fe in CBD methed is caused by the base materials.

关 键 词：X射线衍射 涂覆 相结构 渗钒 深度分析 

分 类 号：TG156.8[金属学及工艺—热处理] TG115.23[金属学及工艺—金属学]