超导涂层导体中NiO缓冲层的制备与研究  

Preparation and study of NiO buffer layer for superconducting coated conductor

作　　者：张红[1] 赵勇[1,2] 张欣[1] 王贺龙[1] 蒲明华[1] 潘敏[1] 

机构地区：[1]西南交通大学超导研究开发中心,磁浮技术与磁浮列车教育部重点实验室,四川成都610031 [2]新南威尔士大学材料科学与工程学院,澳大利亚悉尼2052

出　　处：《功能材料》2011年第5期936-939,共4页Journal of Functional Materials

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50588201,50872116);国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2007AA03Z203);教育部长江学者创新团队计划资助项目(IRTO751);高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(200806130023,200806131034);中央高校专项基金资助项目(SWJTU09ZT24);澳大利亚研究理事会资助项目(DP0559872,DP0881739)

摘　　要：镍基带的自发氧化是基于镍基带上制备涂层超导体所面临的一个重要问题。在镍基带上预先制备一层织构的NiO薄膜是解决该问题的一个简单而有效的方法。研究了空气中NiO薄膜的表面氧化外延生长特性,发现高温短时有利于制备高织构度、高平整度和高致密度的NiO薄膜。在优化的温度和时间条件下,制备了高品质的NiO薄膜,并在NiO上利用化学溶液沉积法制备了SmBiO3外延缓冲层,为进一步超导层的制备提供了可能的实用条件。A randomly oriented NiO growth is an important problem for the preparation of superconducting coated conductor.A simple and valid method is to prepare textured NiO film on the bare nickel tape.In this paper,NiO film was prepared in air by the surface oxidation epitaxial method.High temperature and short time are in favor of the growth of smooth and densification NiO film.We obtained the smooth and densification NiO film at optimal temperature and for optimal time.The buffer layer of SmBiO3 was fabricated on the NiO film.This provides a potential value of the substrate for preparing superconducting layer.

关 键 词：涂层导体 NiO缓冲层 氧化外延 织构 

分 类 号：TB33[一般工业技术—材料科学与工程] TB34