锦屏二级水电站导流洞施工综述  

作　　者：叶明[1] 胡忠英[1] 刘峰春[1] 

机构地区：[1]中国水利水电第六工程局有限公司

出　　处：《水利水电施工》2011年第2期31-33,共3页

摘　　要：锦屏二级水电站导流隧洞分上层和中下层两层进行开挖,上层开挖高度为7.5m,采用先中导洞贯通,然后进行两侧扩挖;中下层开挖高度为8.5～9.35m,采用全断面开挖。混凝土衬砌采用先施工底板,同时浇筑80cm高边墙,然后再浇筑边顶拱的施工方法。边顶拱采用液压钢模台车衬砌,一次成型,泵送入仓。通过不断优化设计和施工技术方案。

关 键 词：导流洞 开挖 支护 混凝土 技术方案 优化 

分 类 号：TV74[水利工程—水利水电工程]