检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:张峰[1] 余景池[1] 张学军[1] 王权陡[1]
机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春130022
出 处:《光学精密工程》1999年第5期1-8,共8页Optics and Precision Engineering
基 金:国家自然科学基金
摘 要:对磁介质辅助抛光技术20 年来的发展作了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光技术的关键所在,并对其发展未来进行了展望。The developing of magnetic media assisted finishing technology in the last 20 years is reviewed in this paper. Producing, developing, mechanism and micromechanism and mathematical model of magnetorheological finishing are described in detail. The key technology and the future of finishing are also given in the paper.
分 类 号:TQ171.684[化学工程—玻璃工业] TG580.692[化学工程—硅酸盐工业]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:18.191.171.178