波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制  

DEPOSITION OF MULTILAYER FOR PULSE LASER MIRROR WITH HIGH LASER INDUCED DAMAGE THRESHOLD

作　　者：付雄鹰[1] 孔明东[1] 胡建平[1] 范正修[2] 

机构地区：[1]成都精密光学工程研究中心,成都610004 [2]中国科学院上海光机所,上海201800

出　　处：《强激光与粒子束》1999年第4期413-417,共5页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家863 惯性约束聚变领域资助课题

摘　　要：研究 Ｈｆ Ｏ２／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀 Ｈｆ Ｏ２、反应离子辅助蒸镀金属 Ｈｆ 的源材料形成 Ｈｆ Ｏ２ 薄膜。采用这三种工艺制备了 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜，在中心波长 １０６４ｎｍ 处，反射率 Ｒ≥９９．５％ ，其中反应蒸镀 Ｈｆ Ｏ２ ／ Ｓｉ Ｏ２ 高反射膜损伤阈值最高，可达 ６０ Ｊ／ｃｍ ２（１０６４ｎｍ ，５ｎｓ）。A series of HfO 2/SiO 2 high reflective multilayers whose reflectivity are more than 99.5% at wavelength 1064nm are coated by three deposition methods. respectitely, and it is found that the method of the reactive electronic beam evaporation of hafnia got the multilayer samples with the hightest laser induced damage threshold 60J/cm 2 for 1064nm, 5ns.

关 键 词：反射膜 激光诱导损伤 阈值 激光薄膜 

分 类 号：TN244[电子电信—物理电子学]