钼溅射靶材的应用、制备及发展  

THE APPLICATION,MANUFACTURE AND DEVELOPING TREND OF MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET

作　　者：安耿[1] 李晶[1] 刘仁智[1] 陈强[1] 张常乐[1] 

机构地区：[1]金堆城钼业股份有限公司技术中心,陕西西安710077

出　　处：《中国钼业》2011年第2期45-48,共4页China Molybdenum Industry

摘　　要：随着平面显示器行业和光伏行业的迅速发展,钼溅射靶材的需求量越来越大。本文就钼溅射靶材的特点,从其应用、市场、制备工艺以及发展趋势等方面进行了总结和讨论。The demand for molybdenum sputtering target increases with the rapid development of the flat panel display industry and photovoltaic industry.The application,market,manufacture and developing trend of molybdenum sputtering target are presented.

关 键 词：钼溅射靶材 应用 制备 发展 

分 类 号：TB43[一般工业技术]