反常电子粘滞性引起的线性双撕裂模研究  

Linear behavior of double tearing mode mediated by parallel electron viscosity

作　　者：何志雄[1,2] 董家齐[1,3] 何宏达[1] 龙永兴[1] 牟宗泽[1] 刘峰[1] 蒋海斌[1] 高喆[2] 

机构地区：[1]核工业西南物理研究院,成都610041 [2]清华大学工程物理系,北京100084 [3]浙江大学聚变理论和模拟中心,杭州310027

出　　处：《核聚变与等离子体物理》2011年第1期8-14,共7页Nuclear Fusion and Plasma Physics

基　　金：国家自然科学基金资助项目(2008CB717806);ITER国内配套项目(2009GB105005;2009GB101002)

摘　　要：用圆柱位形的磁流体动力学方程对由反常电子粘滞性引起的双撕裂模的线性行为做了数值研究。分析了两个有理面的间距、粘滞率大小和极向模数对双撕裂模模式结构的影响,给出了各种情况下双撕裂模线性增长率跟表征反常电子粘滞率大小的电子雷诺数的定标关系。The linear behavior of the double tearing mode （DTM） mediated by parallel electron viscosity in cylindrical plasmas with reversed magnetic shear is numerically investigated. The mode structures and dispersion relations for linearly unstable modes are calculated. A detailed analysis of linear instability characteristics of DTMs with various roles, including the inter-resonance distance, the electron viscosity Reynolds number and poloidal mode number, is performed.

关 键 词：双撕裂模 反常电子粘滞性 数值模拟 

分 类 号：TL612.2[核科学技术—核技术及应用]