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机构地区:[1]华中科技大学光电子科学与工程学院,武汉光电国家实验室,武汉430074
出 处:《物理学报》2011年第7期195-204,共10页Acta Physica Sinica
基 金:国家高技术研究发展计划(批准号:2008AA01Z207);湖北省自然科学基金(批准号:2010CDB01606);华为公司创新研究计划(批准号:YJCB2010032NW);教育部留学归国基金资助的课题~~
摘 要:吸收层、电荷层和倍增层分离结构雪崩光电二极管(SACM-APD),包括InP/InGaAs、InAlAs/InGaAs和Si/GeAPD是光通信领域近年来研究的热点.本文基于电路模型,系统比较了不同外延层厚度、不同材料以及不同结构APD的频率响应特性,重点探讨Si/GeAPD吸收层厚度、光敏面大小、寄生参数等各项参数对带宽的影响,仿真结果与实际器件实验数据相符合.本文的研究成果对SACM-APD的优化设计具有指导意义.In recent years, separate absorption, charge and multiplication avalanche photodiodes (SACM-APDs), including InP/InGaAs, InA1As/InGaAs and Si/Ge APD, have drawn a lot of attention in the field of optical communication. In this paper, on the basis of the circuit model, the frequency response is studied systematically for APDs with different thicknesses of epitaxial layers, different multiplication materials and device structures. The effects of the absorption layer thickness, the dimension of the active area and the parasitic parameters on frequency response are addressed to Si/Ge APD. The simulation resuets are in good agreement with the experimental results, which indicates that the circuit model is helpful for the design optimization of APDs.
分 类 号:TN312.7[电子电信—物理电子学]
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