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作 者:孙学通[1] 杨萌蕾[1] 江鸿杰[1] 关锐峰[1] 张新平[1]
机构地区:[1]华南理工大学材料科学与工程学院,广州510641
出 处:《材料导报》2011年第14期147-149,152,共4页Materials Reports
基 金:国家自然科学基金(5087103951001050);中国博士后科学基金(20100470917);中央高校基本科研业务费专项资金(2009ZM0160)
摘 要:在H2O2+HCl溶液中对多孔NiTi合金进行了化学氧化处理表面改性。利用EPMA、SEM、原子吸收光谱对合金表面氧化膜的组成、形貌及化学氧化处理前后的Ni离子释出进行了研究。结果表明,经过H2O2+HCl溶液化学氧化表面处理后合金表面Ni含量显著降低,在生理盐水中的Ni释放速率明显下降;H2O2+HCl溶液浓度和氧化时间均对合金表面氧化膜的生长有较大影响。Surface modification of porous NiTi alloy was investigated by chemical oxidation in H2O2 + HCl solution. The effects of chemical oxidation on the surface morphology, chemical composition and nickel release of porous NiTi alloys were investigatecl systemically by scanning electron microscopy, EPMA and atomic absorption spectrometry. It was found that the chemical oxidation of porous NiTi alloys in H2O2 + HCl solution resulted in the formation of the oxide scale depleted in Ni. Consequently, the nickel release rate of the samples treated by chemical oxidation in H2O2 + HCl solution was decreased significantly. The growth mechanism of the oxide films was dependent on both the oxidation time and solution concentration.
关 键 词:多孔NITI合金 化学氧化 氧化膜 Ni离子溶出
分 类 号:TG139.6[一般工业技术—材料科学与工程] TG156[金属学及工艺—合金]
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