ICP光谱法直接测定高纯氧化钇中痕量非稀土杂质  

作　　者：江祖成[1] 陈建国[1] 赖志远 廖振超 陈浩[1] 廖振环[1] 

机构地区：[1]武汉大学化学系 [2]江西龙南稀土冶炼厂

出　　处：《稀土》1990年第6期63-65,共3页Chinese Rare Earths

摘　　要：高纯稀土氧化物中非稀土杂质的含量一般在ppm(μg/g)数量级或更低。采用载体分馏法进行测定具有灵敏、操作简便的优点,测定下限达10^(-8)～10^(-5)%;但这一方法仅能测定稀土氧化物中的易挥发和中等挥发元素,且分析结果的精密度差。

关 键 词：ICP光谱法 高纯氧化钇 非稀土杂质 

分 类 号：TG146.452[一般工业技术—材料科学与工程]