相调制光谱椭偏仪校准研究  

作　　者：刘文德[1] 陈赤[1] 于靖[1] 徐英莹[1] 樊其明[1] 张静[1] 

机构地区：[1]中国计量科学研究院,北京100013

出　　处：《计量技术》2011年第7期40-42,共3页Measurement Technique

基　　金：国家自然科学基金（10774143）和中国计量科学研究院基本科研业务费（23-AKY1012）

摘　　要：对相调制光谱椭偏仪进行了用户级别的校准，结合椭偏理论简要讨论了校准的原理，测试结果表明椭偏角准确度达到0．010。探讨了人为造成的准直调节不一致性以及样品膜层的不均匀性对样品测量结果的影响。对热氧化硅样片测量结果进行了统计分析，该工作是进一步研究椭偏仪误差和校准方法以及阿伏加德罗常数项目硅球表面层研究的基础。

关 键 词：计量学 相调制光谱椭偏仪 校准 热氧化硅 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]