检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:宁焕生[1] 张彦[1] 曾智勇[1] 王宝发[1]
机构地区:[1]北京航空航天大学电子工程系,北京100083
出 处:《电子学报》1999年第12期15-18,22,共5页Acta Electronica Sinica
基 金:国防科技预研基金
摘 要:应用物理光学法(PO)与等效电磁流法(ECM)分别计算了复杂目标双站散射中面元与棱边的散射场在WINDOWSNT/98微机平台上利用软件图形标准接口OpenGL和硬件图形加速卡对目标和背景像素进行实时显示和自动消隐,通过对各像素点的散射场计算和相位综合求得总散射场,从而将GRECO扩展为双站图形电磁学数学模型和实例证明了本方法的正确性,对××战斗机双站RCS进行计算,对将来虚拟现实系统环境中的双站RCS实时计算。Based on PO & EMC methods the EM scattering characterization of bistatic RCS for facets and wedges ofcomplex targets is presented in this paper. IN WINDOWS NT/98 platform, the bistatic Graphical Electromagnetic Computingmethod is presented by using the Open Graphical Library and synthesis of the facets and wedges. The mathematical model andpractical example are given to verify the validity of the method. At the same time, it gives bistatic RCS curves of a complextarget for a practical case in virtual reality environment. The results have practical engineering value.
分 类 号:TN011[电子电信—物理电子学]
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