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机构地区:[1]沈阳理工大学应用技术学院,辽宁抚顺113122 [2]中国科学院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁沈阳110016
出 处:《沈阳理工大学学报》2011年第2期49-51,60,共4页Journal of Shenyang Ligong University
摘 要:采用复合电沉积方法在Ni基体上制备了(Ni-Co)-SiC纳米复合镀层,该镀层的组织结构与电沉积Ni-Co合金(晶粒尺寸:110 nm)镀层不同,由Ni-Co固溶体基体(晶粒尺寸:50 nm)和均匀分布其中的SiC纳米颗粒(晶粒尺寸:45 nm)组成。SiC纳米颗粒的加入大大细化了镀层的组织,增加了镀层的显微硬度.电化学实验表明:SiC纳米颗粒使金属还原电位发生正移,降低了Ni-Co合金镀液的极化作用.(Ni-Co)-SiC nanocomposite film was fabricated on pure Ni substrate by co-electrodeposition of Ni-Co alloy base(average grain size:50nm) with SiC nanoparticles(average size:45nm).Compared with electrodeposited Ni-Co alloy film using the same bath and processing parameters,the(Ni-Co)-SiC nanocomposite film exhibited a higher microhardness,due to the addition of SiC nanoparticles refine the grain size of the Ni-Co alloy substrate.Meanwhile,a modified cathodic polarization curve with a positive shift in reduction potential was observed.
关 键 词:共电沉积 NiCo-SiC纳米复合镀层 硬度 极化曲线
分 类 号:TG174[金属学及工艺—金属表面处理]
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