CuHCF/Pt的制备及其电化学性质  

Preparation and Electrochemical Properties of Cupric Hexacyanoferrate Film Modified Platinum Electrode

作　　者：贾晶晶[1] 侯卫华[2] 贾艳辉[3] 

机构地区：[1]滨州学院学报编辑部 [2]滨州技术学院化学工程系 [3]滨州技术学院电气工程系,山东滨州256603

出　　处：《滨州学院学报》2011年第3期83-86,共4页Journal of Binzhou University

基　　金：滨州学院青年人才创新工程科研基金项目(BZXYQNLG200726)

摘　　要：通过实验选择了制备铁氰化铜修饰铂电极（CuHCF/Pt）的最佳条件,并用循环伏安法考察了CuHCF/Pt对一价阳离子的选择性及VC在该电极上的电化学行为.实验结果表明,CuHCF/Pt在0.4~1.0 V（vs.SCE）范围内有一对可逆性良好的氧化还原峰,该电极对K＋有较好地选择性且对VC有催化氧化作用.The best preparation condition of cupric hexacyanoferrate（CuHCF） film modified platinum electrode has been chosen through experiment.The chemical electric behaviours of monovalent cation and ascorbic acid on CuHCF/Pt have been studied by cyclic voltammetry.The result demonstrate that CuHCF film indicate the presence of a couple of well-defined redox peak from 0.4V to 1.0V.CuHCF/Pt exhibits well selectivity of K＋ and catalytic oxidation to ascorbic acid.

关 键 词：铁氰化铜 铂电极 化学修饰电极 循环伏安法 

分 类 号：O657.1[理学—分析化学]