光学基片表面软质抛光胶体粒子的激光清洗  

Laser Cleaning of Soft Colloid Particles on Optical Substrates Surface

作　　者：史兴宽[1] 徐传义[1] 任敬心[1] 王健 巴瑞璋 

机构地区：[1]西北工业大学精密超精密加工技术研究室,西安710072 [2]北京航空工艺技术研究所,北京100024

出　　处：《航空精密制造技术》2000年第3期12-15,共4页Aviation Precision Manufacturing Technology

基　　金：国家自然科学基金;航空科学基金;西北工业大学"双新工程"资助

摘　　要：介绍了光学基片表面软质抛光胶体粒子激光清洗的基本方法、原理和实验装置，并通过对含有污染微粒的基片表面进行激光清洗．获得了高洁净表面的光学基片．In this paper, the preliminary method,principle and test equipment of laser cleaning are mainly intro duced,and hinh cleanness surface is obtained by means of laser cleaning the contaminated particles on optical substrate surface.

关 键 词：光学基片 软质胶体粒子 激光清洗 抛光表面 

分 类 号：TN249[电子电信—物理电子学]