20K冷背景的研制及其应用  

作　　者：任元狮[1] 杨毅[1] 万绍俊[2] 

机构地区：[1]北京卫星环境工程研究所 [2]国防科工委指挥技术学院

出　　处：《航天器环境工程》1997年第1期30-35,共6页Spacecraft Environment Engineering

摘　　要：介绍20K冷屏在研制过程中的热设计和制造过程中解决的关键工艺问题,如材料选择、焊接等。并对冷屏的漏气率、发射率进行了测试。经过多光谱扫描仪合练定标试验证明,冷屏的实际技术性能均超过了设计的技术指标。

关 键 词：传热 低温 真空 空间环境模拟 

分 类 号：V445.8[航空宇航科学与技术—飞行器设计]