一种全新的四炔类非线性光学材料  

作　　者：范永发 余从煊[1] 刘敬镛[1] 冯金生[1] 

机构地区：[1]北京理工大学化工与材料学院

出　　处：《北京理工大学学报》1994年第S1期30-30,共1页Transactions of Beijing Institute of Technology

摘　　要：一种全新的四炔类非线性光学材料范永发，余从煊，刘敬镛，冯金生（北京理工大学化工与材料学院，北京１０００８１）聚二乙炔（ＰＤＡ）作为非线性光学材料具有超快的响应速度，ｐｓ，较大的三阶非线性系数，ｘ（’）。１０’‘ｍＺＶ－‘，以及较高的光损伤阈值，ＧＷ／...

关 键 词：非线性光学材料 损伤阈值 范永发 三阶非线性 北京理工大学 冯金 材料学院 刘敬 光学性能 响应速度 

分 类 号：TB39[一般工业技术—材料科学与工程]