表面活性剂对化学发光的增敏机理探讨  

作　　者：宋缤 李光祖[1] 张悟铭[1] 钟时明 

机构地区：[1]武汉大学化学系,武汉430072 [2]同济医科大学

出　　处：《云南大学学报（自然科学版）》1993年第S1期103-104,共2页Journal of Yunnan University(Natural Sciences Edition)

摘　　要：近年来表面活性剂在化学发光分析中得到广泛地应用,但有关表面活性剂对化学发光反应增敏作用的机理研究却少见报道。 本文试验了15种不同类型的表面活性剂对DMPF-H₂O₂-Co（Ⅱ）体系化学发光反应的影响。选择了两种有代表性的增敏表面活性剂——CTMAB和Triton X—100,试验了其浓度变化对化学发光强度的影响。

关 键 词：化学发光 CTMAB 苯基荧光酮 TRITON 等强度 

分 类 号：N55[自然科学总论]