交流阻抗法研究铝合金表面脉冲氧化膜  

The AC impedance Analysis for Pluse Oxide Film of Aluminium Alloy

作　　者：杜爱玲[1] 马希骋[1] 张鹤鸣[1] 

机构地区：[1]山东工业大学化学工程系,济南250061

出　　处：《电化学》1999年第3期319-325,共7页Journal of Electrochemistry

摘　　要：本 文采用宽 频阻抗 法首次测 得了 铝合 金表 面 脉冲 氧化 膜 的 Ｂｏｄｅ 图 ．实 验表 明： 脉冲氧化膜 与直流 氧化膜的 主要差别 在于多 孔层，脉 冲氧化膜 比较 均匀， 基本 无缺 陷．通 过显 微观 察及 Ｖ Ｉ 特性 曲线等测 定手段， 进一步佐 证了交 流阻抗测 试的部分 结果．Bode diagrams for aluminum PC (abbreviated from pulse current) oxide films were first obtained by AC impedance measurements in a wide range of frequency.The experimental results show that different kinds of electrical equivalent circuits can be used for representing PC films and DC (abbreviated from direct current) oxide films separately,the main differences between them are their porous layers,the PC films are more even with little defects.Those are also verified by SEM and V I characteristic curve measurements.

关 键 词：交流阻抗 铝合金 脉冲 阳极氧化 氧化膜 耐蚀性 

分 类 号：TG178[金属学及工艺—金属表面处理]