质子引起Ta,Au和BiL—亚壳层电离  

L-SUBSHELL IONIZATION FOR Ta, Au AND Bi BY 0.6-2.75MeV PROTON BOMBARDMENT

作　　者：马树勋[1] 杨坤山[1] 刘兆远[1] 张华林 

机构地区：[1]兰州大学现代物理系

出　　处：《原子与分子物理学报》1990年第3期1517-1521,共5页Journal of Atomic and Molecular Physics

摘　　要：0.4—2.75Mev能量的质子轰击薄的Ta,Au和Bi的单元素靶。Si(Li)探测器测量L—壳x射线能谱。利用亚壳层荧光产额和Coster-Kronig跃迁率的理论值,得到2S_(1/2)2P_^(1/2)和2P_(3/2)亚壳层电离截面。测量的L—亚壳层电离截面和它们的比与ECPSSR理论预言值进行了比较。The thin target L-Subshell ionization cross sections have been measured for Ta, Au and Bi with proton impact the ever energy from 0.6 to 2. 75MeV. The measured cross sections are compared with the ECPSSR theory.

关 键 词：质子 钽 AU 铋 L-亚壳层 电离 

分 类 号：O571.422[理学—粒子物理与原子核物理]