温度对高甲烷含量下直流热阴极PCVD法制备纳米金刚石膜的影响  

作　　者：吴春雷[1] 郑友进[1] 王明磊[1] 张军[1] 姜宏伟[1] 刘艳凤[1] 

机构地区：[1]牡丹江师范学院黑龙江省新型炭基功能与超硬材料重点实验室,黑龙江牡丹江157011

出　　处：《牡丹江师范学院学报（自然科学版）》2011年第4期26-27,共2页Journal of Mudanjiang Normal University：Natural Sciences Edition

基　　金：黑龙江省研究生创新科研项目(YJSCX2011-301HLJ)

摘　　要：采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)技术,在CH4,H2流量分别为6sccm和200sccm,反应室气压为6×103 Pa时,通过改变基底温度,制备金刚石膜.采用拉曼光谱仪、扫描电镜和X射线衍射分析仪对样品进行表征.结果表明:利用直流热阴极PCVD方法,在较高的甲烷含量、较低的反应室气压及较低的基底温度下,可以制备出质量较好的纳米金刚石膜,随着基底温度的降低,晶粒尺寸减小,非金刚石相增多,膜的质量下降.

关 键 词：直流热阴极 PCVD 纳米金刚石膜 

分 类 号：O621.3[理学—有机化学]