分步重复投影光刻机同轴对准数据处理  被引量:3

Data Processing of Coaxial Alignment System For Wafer Stepper

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作  者:吕晓真[1] 田宏[1] 

机构地区:[1]中国科学院光电技术研究所,成都610209

出  处:《微细加工技术》2000年第1期41-44,共4页Microfabrication Technology

摘  要:介绍了 0 8~ 1 0 μm分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理 ,详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法 。Constitution and theory of the coaxial alignment system used in 0.8~ 1.0μm wafer stepper is introduced. Software processing and calculating methods of coaxial alignment data are discussed indetail . Results of practical tests are given.

关 键 词:投影光刻机 同轴对准 数据处理 

分 类 号:TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学] TN305.7

 

参考文献:

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引证文献:

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