半导体CVD真空镀膜监控系统的设计  

作　　者：葛品森[1] 刘颖[1] 夏诗怡[1] 

机构地区：[1]浙江农林大学信息工程学院

出　　处：《科技信息》2012年第10期356-356,共1页Science & Technology Information

基　　金：浙江农林大学重点教改项目(ZD1005)资助;浙江农林大学学生创新项目(201100821)"半导体CVD真空镀膜监控系统的研究与开发"资助

摘　　要：为了满足半导体产业发展的需求,本文介绍了一套基于工业PC和PLC的真空设备远程监控系统。内容包括CVD真空镀膜监控系统的工艺,结构以及工作原理,并对该控制系统的软件功能进行了描述。对该系统的监控效果进行了大量的测试。试验结果表明,人机交互性良好,性能稳定,可以精确的远程监控反应过程,并对各个被控量的信息进行实时存储、分析。有效地对现场设备进行管理,保证了系统的准确运行,提高了效率。

关 键 词：化学气相沉积(CVD) 监控系统 工业控制计算机 PLC 

分 类 号：TP277[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]