电沉积光亮Ni-Co合金工艺的研究  

Study on the Technology of Electrodeposition of Bright Ni-Co Alloy

作　　者：周向阳[1] 杨建红[1] 李庆余[1] 刘业翔[1] 刘开宇[2] 

机构地区：[1]中南工业大学冶金系,长沙410083 [2]中南工业大学化学化工学院,长沙410083

出　　处：《电镀与环保》2000年第3期14-16,共3页Electroplating & Pollution Control

摘　　要：通过大量实验 ,研究硫酸镍 硫酸钴 氯化钠体系中得到钴含量 40 %以下的光亮Ni Co合金镀层的最佳添加剂 ;并研究了影响镀层中钴含量的各因素 ,从而得出了光亮镀层中钴含量 2 5 %左右的工艺。Optimum additives used in system of NiSO 4·7H 2O,CoSO 4·7H 2O and NaCl toget bight Ni Co deposit containing Co less than 40% has been developed experimentally. Factors affecting Co content in deposit were investigated, resulting in a technology with which bright deposit containing Co about 25% could be obtained.

关 键 词：电沉积 镀层 镍钴合金 助剂 光亮剂 电镀 镀合金 

分 类 号：TQ153.2[化学工程—电化学工业]