成像体系中照相明胶大分子的超精细结构研究  

作　　者：张宜恒[1] 俞书勤 阎天堂 

机构地区：[1]中国科学技术大学

出　　处：《明胶科学与技术》2000年第1期44-45,共2页The Science and Technology of Gelatin

摘　　要：首次采用X射线光电子能谱技术(XPS),研究了照相明胶中硫元素在掺杂铁(Ⅲ)离子前后的存在形态及其相关性。发现硫在明胶中主要以三种化学形态存在:蛋氨酸砜中的基团,蛋氨酸亚砜中的基团以及蛋氨酸中的—S—基团。三种化学形态间的相对含量,基本上反映出蛋氨酸及其两种氧化产物之间的相对比例。外来铁(Ⅲ)引发明胶中部分蛋氨酸砜被还原为蛋氨酸亚砜,与此同时,明胶中的—CH_2—基团部分氧化为基团。

关 键 词：成像体系 照相胶 明胶 大分子结构 

分 类 号：TQ572[化学工程—精细化工]