基片温度对纳米金刚石薄膜制备的影响  

Influence of substrate temperature on preparation of nano-crystalline diamond films

作　　者：江川[1] 汪建华[1,2] 熊礼威[1] 翁俊[1,2] 苏含[1] 刘鹏飞[1] 

机构地区：[1]武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料实验室,湖北武汉430074 [2]中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥230031

出　　处：《武汉工程大学学报》2012年第4期39-42,46,共5页Journal of Wuhan Institute of Technology

基　　金：国家自然科学基金项目(11175137)

摘　　要：采用多模谐振腔微波等离子体CVD在不同基片温度下制备了纳米金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱测试,研究了基片温度对纳米金刚石薄膜性能的影响.结果表明:在其他工艺条件不变时,基片温度对薄膜性能具有较大的影响,较低的基片温度更有利于制备高质量的纳米金刚石薄膜,实验所获得的优化基片温度为720℃左右.Using multimode resonant cavity microwave plasma CVD apparatus to prepare nano-crystalline diamond thin film at different substrate temperatures,we use scanning electron microscope(SEM),atomic force microscope(AFM)and Raman spectroscopy to study the influence of substrate temperature on the properties of nano-crystalline diamond films.The results show that: with the other conditions unchanged,the substrate temperature has a great influence on the properties of the films,the lower substrate temperature is favorable to deposit nano-crystalline diamond films with a better quality,the optimized substrate temperature is about 720 ℃.

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 纳米金刚石薄膜 沉积温度 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]