添加少量F^-和P_2O_5对锆乳浊釉熔块中锆溶析行为的影响  

Effects of Small Amount of F^- and P_2O_5 additives on the Melting and Crystallization Behaviour of Zirconium in Frit of Zirconic Opaque Glaze

作　　者：王民权[1] 胡红星[1] 叶振国[1] 

机构地区：[1]浙江大学

出　　处：《中国陶瓷》1990年第2期1-7,共7页China Ceramics

摘　　要：本文应用热谱分析、X射线衍射、透射电镜和扫描电镜等研究了组成接近于一般硼锆釉熔块中添加少量F^-和P_2O_5对熔块熔制和热处理时锆溶析规律的影响.确定了它们在1290℃～1410℃范围内锆英石和ZrO_2溶解度和温度的关系以及750℃～1230℃温度范围内热处理的析晶程序、析出相组成、乳浊范围和锆英石、斜锆石析晶最大值温度.讨论了F^-和P_2O_5对锆英石析晶温度、晶粒形貌和大小以及釉烧时的粘度、流散性与乳浊效果的综合影响.

关 键 词：陶瓷 锆釉 乳浊釉 熔块 溶析 

分 类 号：TQ174.43[化学工程—陶瓷工业]