地层水采样过程中实时监测水基泥浆污染的新方法  

作　　者：唐宇 余迎 

出　　处：《测井技术》2012年第2期169-169,共1页Well Logging Technology

摘　　要：在地层水采样污染清除过程中进行连续监测的技术有利于更好地了解污染清除过程的时间剖面。钻到目的层后在泥浆中添加一定量的荧光示踪剂，利用电缆地层测试器井下荧光传感器可以连续监测整个污染清除过程。为了对测量值进行定量解释，测试前可以对荧光传感器进行刻度。

关 键 词：泥浆污染 采样过程 地层水 实时监测 电缆地层测试器 荧光传感器 水基 污染清除 

分 类 号：P618.130.2[天文地球—矿床学]