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作 者:宋波[1] 王晓辉[1] 刘永强[1] 马文辉[1]
机构地区:[1]齐齐哈尔大学化学与化学工程学院,齐齐哈尔161006
出 处:《应用化学》2012年第6期721-723,共3页Chinese Journal of Applied Chemistry
基 金:黑龙江省教育厅资助项目(12521602)
摘 要:考察了4种含有不同N位取代基的对称吲哚方酸菁染料在阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)和非离子表面活性剂曲拉通(TX-100)水溶液中的光降解行为,结果表明,表面活性剂对染料分子具有保护作用,其影响大小为CTAB>TX-100>SDS,分子中有羧基的染料受影响程度最大。在表面活性剂浓度较低时,染料光降解程度随着表面活性剂浓度的增加而增加,但形成胶束后,染料的光降解程度则随着表面活性剂浓度的升高而降低。Photofading behaviors of four water-soluble symmetrical squarylium indocyanine dyes with various substituents at N atom in aqueous solution containing different surfactants such as cetyltrimethylammonium bromide ( CTAB), sodium dodecyl sulfate (SDS) and Triton X-100 (TX-100) were investigated, respectively. The results showed that the effect of surfactants on photofading behaviors of dyes follows an order of CTAB 〉 TX-100 〉 SDS. The dye with carboxyl group was affected most dramatically. At low concentration of CTAB, photofading degree of the dyes was increased with increasing concentration of CTAB. With the formation of micelles, photofading degree of the dyes was reduced with increasing concentration of CTAB.
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