磁约束放电激励的XeCl准分子激光器  

Experimental Research of XeCl Excimer Laser Excited by Magnetically Confined Discharge

作　　者：王涓 谷怀民 陈永荣 胡雪金 丘军林[2] 龚志伟[2] 周小伙 孙海斌[2] 

机构地区：[1]中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥230031 [2]华中理工大学激光技术国家重点实验室,武汉430074

出　　处：《量子电子学报》2000年第2期150-156,共7页Chinese Journal of Quantum Electronics

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文对激光激励的一种新技术─磁约束放电激励技术在 ＸｅＣｌ准分子激光器中的应用进行了实验研究．并分析比较了以 Ａｒ或 Ｈｅ为缓冲气体时磁约束放电激励对 ＸｅＣｌ准分子激光输出的影响．In this paper, the XeCl excimer laser excited by magnetically confined discharge is studied in both theory and experiment, the results are compared and analyzed under the condition of Ar or He buffer gas.

关 键 词：磁约束放电激励 XECL准分子激光器 激光激励 

分 类 号：TN248.22[电子电信—物理电子学]