PLZT铁电薄膜的物理特性研究  

A Study on the Physical Properties of PLZT Ferroelectric Thin Films

作　　者：陈篮[1] 李辉遒[2] 张曰理[2] 莫党[2] 

机构地区：[1]解放军广州通信学院基础教研室,广东广州510502 [2]中山大学物理系,广东广州510275

出　　处：《功能材料》2000年第3期287-290,共4页Journal of Functional Materials

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：铁电薄膜是近几年人们关注的功能材料。本文对用溶胶 -凝胶技术制备的PLZT铁电薄膜从热处理工艺、X射线结构分析、FT -IR红外光谱等各个方面作了较为系统的研究。讨论了PLZT铁电薄膜的热处理工艺条件、结构特性、光谱特性与材料的表观裂纹、晶态与非晶态之间的关系。对红外光谱的特征吸收峰作了指认 ,得到了一系列有意义的结果。In recent years,lead-based ferroelectrics thin films have gained much attention as attractive materials.In this work,we report our experimental results of systematic study of sol-gel processing PLZT thin films using X-ray diffraction,Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy etc.We also discuss in detail the relation between heat treatment technology,phase structures,optical spectroscopic properties with apparent crackle,crystalline state and amorphous state etc.The PLZT thin films are characterized by FT-IR.Lastly,a series of significant conclusions are given.

关 键 词：PLZT铁电薄膜 热处理 X射线衍射 FT-IR红外光谱 

分 类 号：TN384[电子电信—物理电子学] TM223[一般工业技术—材料科学与工程]