双金属电弧离子蒸发源的研制  

作　　者：胡志杰[1] 李争显[2] 

机构地区：[1]宝钛集团有限公司,陕西宝鸡721014 [2]西北有色金属研究院,陕西西安710016

出　　处：《科技创新导报》2012年第13期14-15,共2页Science and Technology Innovation Herald

摘　　要：阐述了双金属电弧离子蒸发源的设计原则及结构。利用双金属电弧离子蒸发源成功制备了TiAlN膜层,并对优化的制备参数做了简要介绍。

关 键 词：电弧离子镀 离子蒸发源 研制 

分 类 号：TG174[金属学及工艺—金属表面处理]