铝过渡层沉积CVD金刚石涂层的研究  

Study of CVD diamond coating on Cemented Carbide of PVD-sputtered Al interlayer

作　　者：郑琳[1] 左敦稳[1] 徐锋[1] 卢文壮[1] 张旭辉[1] 黄美健[1] 朱良杰[1] 

机构地区：[1]南京航空航天大学抗疲劳制造与表面工程研究所,江苏南京210016

出　　处：《机械制造与自动化》2012年第3期27-29,42,共4页Machine Building & Automation

基　　金：国家自然科学基金(No.51005117);国家自然科学基金(No.51075211);南京航空航天大学2010年度研究生创新基金

摘　　要：使用Murakami溶液和王水预处理高钴硬质合金刀片,并用直流磁控溅射(DCS)技术在此硬质合金上溅射铝过渡层,在热丝化学气相沉积(HFCVD)设备里沉积金刚石薄膜;分析了金刚石形核机理,并利用SEM以及Raman等方法表征试样。结果表明:与未溅射过渡层的样品相比,在过渡层上的金刚石形核密度更高,金刚石颗粒尺寸更加细小。The WC-10%Co cutting tool material is pre-treated by Murakami solution and aqua regia; then aluminum（Al） is sputtered on the hard-metal by direct current magnetron sputtering （DCS） technology. Diamond thin films are deposited on the cemented car- bide by hot filament chemical vapor deposition （HFCVD） process. The diamond nucleation mechanism on the hard-metal is ana- lyzed. The results show that as compared with uncoated Al interlayer sample, its diamond nucleation density is higher and the dia- mond grain size is smaller.

关 键 词：直流磁控溅射技术 铝中间层 金刚石薄膜 高钴硬质合金 

分 类 号：TG154.5[金属学及工艺—热处理]