中芯国际和新思科技扩展40nm低功耗Reference Flow5.0  

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出  处:《电子设计工程》2012年第14期34-34,共1页Electronic Design Engineering

摘  要:全球领先的半导体设计、验证和制造软件及知识产权(IP)供应商新思科技公司,与世界领先半导体代工企业之一中芯国际集成电路制造有限公司今日宣布:从即日起推出其40nmRTL—to—GDSII参考设计流程的5.0版本。此款经过生产验证的流程借助Synopsys的完整工具套件,将多样化的自动化低功耗和高性能功能整合在其中,给中芯国际的客户带来了目前芯片设计所需要的差异化性能和功耗结果。

关 键 词:中芯国际集成电路制造有限公司 新思科技公司 REFERENCE 低功耗 半导体设计 参考设计流程 知识产权 工具套件 

分 类 号:TN4[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

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