DO_(22)相间反相畴界成分演化的微观相场模拟  

作　　者：张明义[1,2] 杨坤[1] 陈铮[1] 王永欣[1] 张嘉振 

机构地区：[1]西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安710072 [2]中国商用飞机有限责任公司北京民用飞机技术研究中心,北京100083

出　　处：《有色金属工程》2012年第4期21-27,共7页Nonferrous Metals Engineering

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50941020;10902086;50875217;20903075)

摘　　要：基于微观相场模型研究Ni75AlxV25-x合金沉淀过程中原子尺度界面结构对DO22-Ni3V相间反相畴界成分及其演化的影响。研究表明,在DO22相间反相畴界处,镍和铝偏聚,钒贫化。由于界面溶质拖曳效应和扩散,使得合金元素在反相畴界处的偏聚和贫化程度随时间改变,但倾向不变。不同反相畴界的界面原子排列方式存在差别,这使得合金元素在界面处占位几率所受到的影响不同,从而导致合金元素在不同界面处的偏聚和贫化程度不同。相对于DO22相沿[001]方向形成的反相畴界(002)//(002),反相畴界(002)//(002).[100]处,镍的偏聚程度较大,铝的偏聚程度较小,钒的贫化程度较小。DO22相沿[100]方向形成的三种反相畴界中,在反相畴界{100}.[100]处,镍和铝的偏聚程度最大,钒的贫化程度最大,而在反相畴界{201}.[001]处,镍和铝的偏聚程度最小,钒的贫化程度最小。弹性应变能不改变合金元素在各个反相畴界处偏聚和贫化程度的相对大小。

关 键 词：微观相场 反相畴界 DO22-Ni3V相 溶质偏聚 Ni75AlxV25-x合金 

分 类 号：TG146.15[一般工业技术—材料科学与工程] TG113.12[金属学及工艺—金属材料]