西瓜温室有机基质栽培技术  

作　　者：康忠华[1] 

机构地区：[1]哈尔滨市农业科学院,150070

出　　处：《种子世界》2012年第8期42-43,共2页Seed World

摘　　要：1栽培设施 1．1简易栽培槽 用砖砌成，长度依温室的具体情况而定，一般不超过20cm，槽内宽90cm、高18cm，槽间走道90cm。槽底铺1层0．1mm厚的聚乙烯薄膜与地面土壤隔离。

关 键 词：有机基质栽培 温室 技术 西瓜 聚乙烯薄膜 栽培设施 栽培槽 土壤 

分 类 号：S641.2[农业科学—蔬菜学]