铜电解槽发展概况  被引量:1

Development of Electrolytic Cell for Copper

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作  者:张鹏[1] 刘秀[1] 邓攀[1] 陈涛[1] 

机构地区:[1]江西理工大学,江西赣州341000

出  处:《山西冶金》2012年第4期1-3,共3页Shanxi Metallurgy

摘  要:介绍了各类铜电解槽的发展过程,对它们的优缺点进行了比较,提出了今后铜电解槽发展趋势及方向。This paper introduce the development of Various types electrolytic cell for copper,The advantages and disadvantages of them were compared, and put forward the development trend and direction of electrolysis cell for copper.

关 键 词:铜电解槽 内衬 防腐蚀 

分 类 号:TF811[冶金工程—有色金属冶金]

 

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