薄膜技术应用于光学元件的专利分析  

作　　者：李欣[1] 李飞[2] 

机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心材料工程发明审查部,北京100083 [2]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心光电技术发明审查部,北京100083

出　　处：《企业导报》2012年第17期131-133,共3页Cuide to Business

摘　　要：以涉及薄膜技术应用于光学元件的专利分析为样本,从中外专利申请量、中国专利申请中申请人、申请类别等多种角度剖析了薄膜技术应用于光学元件的整体发展状况。研究表明在我国薄膜技术应用于光学元件领域的发明专利申请中,国外专利申请份额相当大,但在国内经济发展的趋势下,国内的专利申请量在逐年提高。建议我国在该领域的科技研发仍需进一步提高。

关 键 词：薄膜技术 光学元件 专利分析 

分 类 号：TB43[一般工业技术]