Elos技术和420nm Broadband Light治疗面部痤疮的比较研究  

作　　者：王竞[1] 栾琪[1] 王延婷[1] 刘斌[1] 

机构地区：[1]第四军医大学西京医院全军皮肤病研究所,西安市710032

出　　处：《中国激光医学杂志》2012年第5期348-348,共1页Chinese Journal of Laser Medicine & Surgery

摘　　要：目的：评价elos技术和BroadbandLisht（BBL）治疗面部痤疮的临床有效性和不良反应。方法：应用elos技术治疗面部痤疮患者13例，其中elos技术中的强脉冲光能量密度10．0～18．0J／cm^2，射频能量密度15．0～25．0J／cm^2；使用420nmBBL治疗面部痤疮患者14例，强脉冲光的能量密度7．0～8．0J／cm。；分别治疗1～4次，间隔时间1个月。

关 键 词：面部痤疮 治疗 能量密度 痤疮患者 强脉冲光 不良反应 间隔时间 有效性 

分 类 号：R758.733[医药卫生—皮肤病学与性病学]