基于准分子激光器火焰中OH自由基测量技术研究  

Measurement of OH Radicals in Flame with XeCl Excimer Laser

作　　者：刘宇 刘文清[1] 阚瑞峰[1] 司福祺 许振宇 胡仁志 谢品华[1] 

机构地区：[1]中国科学院安徽光学精密机械研究所国家环境光学监测仪器工程技术研究中心,安徽合肥230031

出　　处：《光谱学与光谱分析》2012年第11期2897-2901,共5页Spectroscopy and Spectral Analysis

基　　金：国家自然科学基金项目(61108031)资助

摘　　要：介绍了利用XeCl准分子激光器作为光源,测量酒精喷灯火焰中OH自由基浓度的实验方法与结果分析。以XeCl准分子激光器作为光源,采用Herriott结构多次反射池扩展光程至2 560m,利用酒精喷灯作为OH自由基发生器,使用光谱分辨率为3.3pm的高分辨中阶梯光栅光谱仪作为光谱采集系统。详细描述了应用不包含etaloning结构的XeCl准分子激光器作为光源的原因,如何去除XeCl准分子激光器反应腔腔体中的水汽干扰等。选取308.145～308.175nm波段范围对OH自由基浓度进行了反演,并与利用氙灯作为光源测量酒精喷灯中OH自由基浓度的结果进行了对比。The present paper describes how to measure OH radicals in the flame of alcohol burner flame by using XeCl excimer laser.The instrument consists of a XeCl excimer laser as light source,a multiple-reflection cell with whole path length of light achieving 2 560 meters,and a double pass high resolution echelle spectrometer with resolution 3.3 pm.This paper describes the reason for using the XeCl excimer laser without spectral etaloning and how to get rid of the water in reactor chamber.The results of the experiment get some absorption peak of OH radicals from 308.145 to 308.175 nm.By choosing the appropriate fit area and fitting,the results contrast with the measure data by using Xe lamp as light source.

关 键 词：XECL准分子激光器 etaloning光谱结构 OH自由基 

分 类 号：O433.5[机械工程—光学工程]