A Structure and Physical Properties of Ni Films in Metastable States  

作　　者：Sergey Ryabtsev Pawel Gusevik Valery Bashev Fedor Dotsenko 

机构地区：[1]Department of Metal Physics, Dnipropetrovsk National University, Dnipropetrovsk, Ukraine

出　　处：《材料科学与工程（中英文A版）》2012年第9期648-653,共6页Journal of Materials Science and Engineering A

关 键 词：NIO 薄膜 结构 物理性质 等离子体溅射 亚稳态 沉积速率 X-射线分析 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TB383[理学—物理]