液晶背光领域专利技术现状与发展趋势  

作　　者：邹丽娜[1] 王玮玮[1] 安蕾[1] 张云[2] 

机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心光电部 [2]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心电学部

出　　处：《中国发明与专利》2012年第11期39-43,共5页China Invention & Patent

摘　　要：本文通过对液晶背光领域的中国专利申请量、国家/地区及申请人分布情况进行统计分析,并与该领域全球范围内的专利申请量、国家/地区分布情况进行横向对比,揭示了液晶背光领域的专利技术现状,并从液晶背光领域五大技术类别的专利申请量透视近年来该领域的研究热点,为我国液晶背光产业的发展提供参考。

关 键 词：液晶背光 专利 分析 

分 类 号：O753.2[理学—晶体学]