硅油基底上楔形钴薄膜的褶皱形貌研究  

作　　者：庞梦如[1] 余森江[1] 

机构地区：[1]中国计量学院应用物理系

出　　处：《科技信息》2012年第36期2-3,共2页Science & Technology Information

基　　金：国家自然科学基金项目(No.11204283)资助课题

摘　　要：利用玻璃盖片的遮挡效应,采用直流磁控溅射方法在硅油基底上成功制备出膜厚连续变化的楔形钴薄膜系统,并研究了该薄膜的内应力释放模式。实验表明,沉积过程中系统受热膨胀,随后的冷却过程导致钴薄膜中产生较大的压缩应力,并形成多种特征的褶皱形貌。在楔形薄膜和平整薄膜的过渡区域,发现存在明显的分界线,边界对褶皱的取向具有较强的调控作用(褶皱基本垂直于分界线),并可用薄膜的应力模型进行解释。在楔形薄膜区域,褶皱的波长随距离的增加明显减小,反映出薄膜厚度随距离的变已化很规难律分:在辨距,薄离膜小厚于度50也0μ趋m近时于,薄零膜。厚度均匀递减;当距离大于500μm时,薄膜厚度的衰减趋势变缓;当距离接近于900μm时,褶皱已很难分辫,薄膜厚度也趋近于零。

关 键 词：楔形钴薄膜 硅油基底 褶皱 内应力 边界效应 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业]