超高硬度纳米复合薄膜Ti-Si-N结构的研究进展  

Research Progress on the Super Hard Nano Composite Films of Ti-Si-N Structure

作　　者：任元[1] 刘学杰[1] 谭心[1] 郭金鸽[1] 孙士阳[1] 

机构地区：[1]内蒙古科技大学机械工程学院,包头014010

出　　处：《材料导报（纳米与新材料专辑）》2012年第2期94-97,共4页

基　　金：国家自然科学基金(50845065);内蒙古教育厅科研基金(NJ06077);内蒙古自然科学基金(2010Zd21);内蒙古高等学校科学研究项目(NJ10103)

摘　　要：综述了Ti-Si-N超硬纳米复合薄膜结构形式的研究进展。介绍了研究者对Si原子在Ti-Si-N中形成的晶界是否为晶态的认识与研究,阐述了Si原子在Ti-Si-N中所形成的界面结构形式的研究现状以及Ti-Si-N薄膜沉积过程中的形成机制,并展望了Ti-Si-N超硬纳米复合薄膜今后的研究方向。The research development of the super hard nano composite Ti-Si-N coating structure is reviewed. The crystalline or amorphous of Si in Ti-Si-N coating is introduced. The recent studies of interfaces structure in Ti-Si N coating and the formation mechanism of Ti-Si-N are summarized. Based on the summary, research direction of nano composite Ti-Si-N coating in the future are prospected.

关 键 词：Ti—Si—N薄膜 纳米复合结构 界面结构 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]