检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:蒋勇[1,2] 向霞[1] 刘春明[1] 袁晓东[2] 杨亮[1,2] 晏中华[1,2] 王海军[2] 廖威[2] 吕海兵[2] 郑万国[2] 祖小涛[1]
机构地区:[1]电子科技大学物理电子学院,四川成都610054 [2]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900
出 处:《中国激光》2012年第12期61-66,共6页Chinese Journal of Lasers
基 金:国家863计划(2008AA8040508);国家自然科学基金(61178018);NSAF联合基金(11076008);中央高校基本科研经费(ZYGX2011J043);电子科技大学青年基金重点项目(L08010401JX0806);资助课题
摘 要:熔石英光学元件表面损伤修复点周围的烧蚀碎片是诱导元件损伤的一个主要因素。根据烧蚀程度将修复点周围的烧蚀物质分为两类,然后针对不同类型的烧蚀采取大光斑CO2激光钝化和氢氟酸缓冲溶液刻蚀清洗两种方法对其进行去除处理,并且得到具体的优化处理参数。实验结果表明,两种方法都可以有效地去除修复点周围的烧蚀碎片,达到有效提升修复点抗激光损伤能力的目的。The ablation debris around the mitigated damage site on the surface of fused silica is one of the major factors inducing the damage of optics. The debris are classified into two types based on the ablation degree. The large-beam CO2 laser passivation and the buffered hydrofluoric acid solution etching method are used to eliminate the debris according to its types. Meanwhile, the corresponding optimal condition parameters are also obtained. The results show that the two methods can effectively eliminate the debris and improve the resistance damage capability of mitigated sites.
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