印刷电子技术专利申请状况分析  被引量:2

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作  者:王亦[1] 林剑[1] 马廷灿[2] 

机构地区:[1]中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,江苏苏州215123 [2]中国科学院武汉文献情报中心,湖北武汉430071

出  处:《情报探索》2012年第12期25-28,共4页Information Research

摘  要:利用德温特专利数据库,对全球印刷电子技术专利进行检索,并从专利发展趋势、地区分布、专利申请人、IPC技术领域等方面进行分析。

关 键 词:印刷电子 专利 趋势分析 

分 类 号:G353.1[文化科学—情报学]

 

参考文献:

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