氧化锡薄膜的光学性能及制备技术  

作　　者：唐平[1] 黄晓霞[1] 

机构地区：[1]中国兵器工业第五九研究所,重庆400039

出　　处：《四川兵工学报》2012年第12期122-125,共4页Journal of Sichuan Ordnance

摘　　要：对氧化锡薄膜的光学性能进行了详细分析与研究;采用Wemple和DiDomenico(WD)关于介电函数的半经验模型进行了建模与仿真;描述了离子和共价固体带间吸收边沿下的介电函数;计算了含二氧化锡和一氧化锡共混物的折射率,以及有空隙二氧化锡的折射率;揭示了他们与薄膜成分、微观结构之间的关系,并对氧化物镀膜技术的现状与应用进行了简要概述。

关 键 词：薄膜 氧化锡 光学性能 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]