Si(100)2×1面上钾原子间相互作用和吸附表面结构  

Interaction Between Absorbed Potassium Atoms on Si(100)2×1 Surface and Chemisorption Surface Structure

作　　者：周煦炎[1] 施丹华[1] 曹培林[1] 

机构地区：[1]浙江大学物理系,杭州310027

出　　处：《Journal of Semiconductors》1991年第9期525-529,共5页半导体学报（英文版）

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文用原子集团模型和 ASED-MO方法,计算了K在Si(100)2 ×1面上不同吸附位置上的结合能和K-K相互作用能,从不同吸附结构下吸附能的计算结果,讨论了饱和覆盖度下的表面结构问题,支持了由两种类型的吸附K原子键组成的双层结构模型.Using ASED-MO method and cluster model, the binding energies of K atoms on Si(100)2×1 surface for different sites and the K-K interactions are calculated.From the calculated.results of chemisorption energies for different kinds of chemisorption structures, the surfacestructure for saturated coverage is discussed, and the double layer model is confirmed.

关 键 词：硅 钾元子 相互作用 吸附 表面结构 

分 类 号：O614.113[理学—无机化学]